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本发明公开了一种利用湿法刻蚀制作熔石英衬底曲线型光栅元件的方法，包括：对熔石英衬底进行清洗；对清洗后的熔石英衬底表面涂覆光敏性有机材料膜层；在涂覆有光敏性有机材料膜层的熔石英衬底表面曝光显影，产生光栅图像；进行湿法刻蚀，将曝光显影产生的光栅图像转移到熔石英衬底上，得到熔石英衬底光栅；对熔石英衬底光栅进行清洗，去除湿法刻蚀后熔石英衬底光栅表面残留的光敏性有机材料膜层材料，得到熔石英衬底曲线型光栅元件。本发明的方法可制作无亚表面缺陷的熔石英衬底光栅元件，进而提升熔石英衬底光栅元件的抗激光损伤性能，延
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116626793 A
(43)申请公布日 2023.08.22
(21)申请号 202310599730.7
(22)申请日 2023.05.25
(71)申请人 中国工程物理研究
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