原创力文档- 1
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- 2023-08-23 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶片抛光系统，包括：旋转盘，旋转盘内形成换热空间，换热空间具有循环水入口和循环水出口，旋转盘上表面设有抛光垫；承载装置，承载装置可旋转地设在旋转盘旋转轴的一侧且位于旋转盘的上方，承载装置上安装有晶片，晶片朝向旋转盘上表面设置；温度检测装置，温度检测装置设在旋转盘的上方；温度补偿装置，温度补偿装置设在旋转盘的上方；控制装置，控制装置与温度检测装置、承载装置和温度补偿装置相连，控制装置基于温度检测装置的显示调节承载装置的压力和/或温度补偿装置的功率，以保持抛光垫的温度恒定。采用该
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210189428 U
(45)授权公告日
2020.03.27
(21)申请号 20192
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