一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构.pdfVIP

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  • 2023-08-29 发布于四川
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一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构.pdf

本实用新型提供一种AMATEtchCenturaAP平台设备的高速旋转气管密封结构,涉及集成电路生产设备,通过环绕气管设置的磁体以及位于气管与磁体之间的磁流体构成AMATEtchCenturaAP平台设备的高速旋转气管密封结构,能够有效达到真空密封效果,同时不会在高速运动中损伤密封部件,使晶圆传输过程中不出现移动现象,以避免密封不良导致的真空压力下降报警,硅片对准异常报警,硅片滑片报警,减少AMATEtchCenturaAP平台设备的停机(down)次数,提升AMATEtch

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210266213 U (45)授权公告日 2020.04.07 (21)申请号 20192

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