半导体镀膜工艺_4.pptxVIP

下载本文档

7
0
约小于1千字
约 31页
2023-08-31 发布于江苏
举报
版权申诉

半导体镀膜工艺_4.pptx

1、本文档共31页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

镀膜工艺;基本概念;真空;1.真空的定义真空的含义是指在给定的空间内低于一个大气压力的气体状态，是一种物理现象。;2.真空的计量单位;3.真空区域的划分;4.如何产生真空;5.使用真空的目的;等离子体;1.什么是等离子体;2.常见的等离子体日常生活中遇到的闪电和极光，太阳，日光灯等都是等离子体;3. 等离子体的产生;4.气体分子数与离化几率的关系;5. 等离子体的特点;6. 等离子体在半导体中的应用;物理成膜;蒸镀沉积过程蒸发或升华。通过一定加热方式使被蒸发材料受热蒸发或升华，由固态或液态变成气态。输运到衬底。气态原子或分子在真空状态及一定蒸气压条件下由蒸发源输运到衬底。吸附、成核与生长。通过粒子对衬底表面的碰撞，衬底表面对粒子的吸附以及在表面的迁移完成成核与生长过程。是一个以能量转换为主的过程。;2. 蒸镀;1.溅射镀膜;磁控溅射是在溅射镀膜的基础上增加磁性偏转，增加束缚电子运动路径，提高气体的离化率，实现溅射镀膜效率的提高主要应用在制备高附着力、同时对轻微原子损伤无要求的膜;4.脉冲激光沉积PLD;第四章简介分子束外延MBE;镀膜方式的对比;化学沉积;履带式APCVD装置;LPCVD装置示意图;3.等离子化学沉积PECVD;4.有机金属化学沉积MOCVD;5.原子层沉积ALD;热氧化;电镀