一种阵列基板制作工艺共用光罩的方法.pdfVIP

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2023-08-30 发布于四川
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一种阵列基板制作工艺共用光罩的方法.pdf

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本发明涉及显示器技术领域，提供一种阵列基板制作工艺共用光罩的方法，包括以下步骤：S1、在玻璃衬底的上表面固定设置栅极；S2、固定设置第一绝缘层；S3、固定设置有源层；S4、通过第一灰阶光罩，进行曝光、显影、干式蚀刻，形成DC孔；S5、固定设置源极、漏极；S6、固定设置第二绝缘层；S7、通过第一灰阶光罩，进行曝光、显影、湿式蚀刻，形成TP走线；S8、固定设置第三绝缘层；S9、开设PV孔；S10、固定设置画素电极；S11、固定设置第四绝缘层；S12、开设CH孔；S13、固定设置公共电极。本发明的优点

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116666396 A (43)申请公布日 2023.08.29 (21)申请号 202310707007.6 (22)申请日 2023.06.15 (71)申请人福建华佳彩有限公司地址 351