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一种用于木质素解聚的过渡金属掺杂缺陷型g-C3N4光催化材料及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-09-06 发布于四川
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一种用于木质素解聚的过渡金属掺杂缺陷型g-C3N4光催化材料及其制备方法.pdf

    本发明公布了一种用于木质素氧化解聚的过渡金属掺杂缺陷型g‑C3N4光催化材料的制备方法。首先将三聚氰胺和可溶性过渡金属盐按比例混合均匀，经过酸化处理后将混合物干燥煅烧，得到过渡金属掺杂富C缺陷g‑C3N4。本发明利用酸蚀和热剥离双重作用，得到比表面积更大、层状结构分明的缺陷型g‑C3N4，继而将过渡金属原子稳定嵌于酸刻蚀留下的C空位中，有效拓宽了催化材料的光响应范围及催化活性，材料制备简单、成本可控，可在温和条件下实现木质素中C‑O及顽固C‑C键的氧化解聚。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116689008 A (43)申请公布日 2023.09.05 (21)申请号 202310566911.X (51)Int.Cl .

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