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半导体工艺设备及最优阻抗值获取方法、扫频匹配方法.pdfVIP

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  • 2023-09-16 发布于四川
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半导体工艺设备及最优阻抗值获取方法、扫频匹配方法.pdf

    本申请公开了一种半导体工艺设备及最优阻抗值获取方法、扫频匹配方法，属于半导体工艺技术。该扫频匹配方法包括以下步骤：根据当前待执行的等离子体刻蚀工艺，获取可变阻抗器件的最优阻抗值；将该可变阻抗器件的阻抗固定在该最优阻抗值；开启射频电源的扫频模式，以实现等离子体起辉匹配。本技术方案，其可有效避免射频电源输出的信号震荡的问题，提高射频电源的扫频匹配成功率，进而提高工艺结果的可重复性和稳定性。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116759284 A (43)申请公布日 2023.09.15 (21)申请号 202310802507.8 (22)申请日 2023.06.30 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司 地

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