电沉积制备FeCo和FeNi薄膜的高频磁性研究的中期报告.docxVIP

电沉积制备FeCo和FeNi薄膜的高频磁性研究的中期报告 本次研究以电沉积方法制备了FeCo和FeNi薄膜，并探究了其高频磁性特性。具体步骤如下： 1. 材料制备：使用电沉积技术，在玻璃基底上生长了约25 nm的FeCo和FeNi薄膜。在制备过程中，电解液采用了加入有机添加剂的磷酸盐缓冲溶液，以提高薄膜沉积速率和表面光滑度。 2. 检测方法：使用霍尔效应测量了薄膜的饱和磁化强度和矫顽力，并利用X射线衍射仪分析了其晶体结构。通过变频器扫描测试系统，测量了薄膜的交流电阻率和磁滞回线的高频响应。 3. 结果分析：实验结果显示，FeNi薄膜呈现出优异的高频磁性能力，交流电阻率和磁滞回线频率响应相当稳定；而FeCo薄膜则在较高频率下表现出衰减现象，这可能与FeCo薄膜自身磁各向异性有关。同时，通过磁滞回线的特性分析，发现FeNi薄膜的矫顽力和饱和磁化强度大于FeCo薄膜。 综上所述，本研究成功制备了FeCo和FeNi薄膜，并初步探究了其高频磁性特性。进一步的研究将集中于优化薄膜制备工艺和探究其在高频电磁器件中的应用。