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本实用新型涉及半导体技术领域，公开了一种引线框架清洗装置，包括机体和清洗槽，清洗槽设置在机体内部，机体相对两侧设有开口，机体内在清洗槽的上方设有穿过机体相对两侧开口的多维度运动机构，多维度运动机构下方设有引线框架固定板，引线框架固定板活动固定在多维度运动机构下部；机体内壁沿多维度运动机构方向在清洗槽的相对两侧上方设有风机。本实用新型可实现在引线框架清洗前后对引线框架进行清洁目的，用风机在引线框架清洗前进行清洁，避免引线框架上的灰尘污染电解液。用风机对在引线框架清洗后进行清洁，避免了因需引线框架上
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210497467 U
(45)授权公告日
2020.05.12
(21)申请号 20192
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