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- 2023-10-01 发布于四川
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本实用新型系提供一种用于投影成像的透镜系统，包括依次设置的投影源、投影透镜组和出光透镜，投影源靠近投影透镜组的一侧依次设有准直透镜和起偏器，起偏器与投影源之间连接有入光通道，出光透镜靠近投影透镜组的一侧设有检偏器，检偏器与出光透镜之间连接有出光通道。本实用新型在投影源与出光透镜之间设置有起偏器和检偏器，从投影源出射的光线经起偏器调节后再射入投影透镜组，光线需要经检偏器才能射向出光透镜，源自投影源的光线是经过偏振的，能够有效排除其他杂光的影响，且入光通道能够有效避免杂光应经过起偏器偏振，出光通道能
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210573157 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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