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新型二维半导体材料——黑磷 二维材料石墨烯MoS2黑磷 黑磷的结构 磷单质红磷白磷黑磷 黑磷的制备高温高压法将白磷在12000大气压下加热到200摄氏度,可得到片状黑磷高能球磨法对红磷或白磷进行高能球磨,可得到黑磷粉末金属催化法红磷在部分金属(如:Au、Sn等)的催化下,加热可转化为黑磷 黑磷的半导体性质计算结果:单层黑磷的禁带宽度:~2.5 eV层数增加,带隙降低块状黑磷的禁带宽度:0.3 eV 黑磷 vs MoS2MoS2块体是间接带隙的半导体(1.2 eV)单层时候可以变成直接带隙的半导体(1.8 eV)通常做成n型半导体黑磷无论多少层,都是直接带隙半导体,带隙随着层数减少而增加可做成p型或n型半导体 黑磷的应用作为锂离子电池的负极材料Electrochemical Activity of Black Phosphorus as an Anode Material for Lithium-Ion Batteries J. Phys. Chem. C 2012, 116, 14772?14779 黑磷的应用Black Phosphorus and its Composite for Lithium Rechargeable Batteries Adv. Mater. 2007, 19, 2465–2468Graphite: 372 mA·h/g 黑磷烯的制备黑磷烯,即单层或多层黑磷(类似于石墨烯)石墨烯机械剥离CVD氧化石墨还原化学合成等黑磷烯目前只有机械剥离 黑磷烯的应用场效应晶体管Black phosphorus field-effect transistorsNature Nanotechnology红磷黑磷表面有一层SiO2的硅基片沉积金属实验显示,当黑磷厚度小于7.5纳米时,其在室温下可以得到可靠的晶体管性能,其漏电流的调制幅度在10万量级,电流-电压特征曲线展现出良好的电流饱和效应。晶体管的电荷载流子迁移率还呈现出对厚度的依赖性,当二维黑磷材料厚度在10纳米时,获得最高的迁移率值大约1000平方厘米每伏每秒。这些性能表明,二维黑磷场效应晶体管在纳米电子器件应用方面具有极大的潜力。 单层黑磷烯的制备Plasma-assisted fabrication of monolayer phosphorene and its Raman characterization黑磷晶体多层黑磷烯单层黑磷烯 发展前景1、纳米电子和光电应用2、单层黑磷烯的制备与研究

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