一种水箱组件及光刻机浸液供给系统.pdfVIP

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2023-10-14 发布于四川
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一种水箱组件及光刻机浸液供给系统.pdf

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本发明涉及光刻机浸液供给技术领域，公开一种水箱组件及光刻机浸液供给系统，水箱组件包括:第一水箱和第二水箱，第二水箱位于第一水箱内，第一水箱的顶部具有溢流口，第二水箱的顶部具有浸液降流口，且第一水箱的溢流口高于第二水箱的浸液降流口；第一水箱的底部与浸液进液口连通，第二水箱的底部与浸液出液口连通。进入第一水箱内的浸液升流并分成两股水流，一股浸液在浸液降流口K1开始降流，进入第二水箱，另一股浸液经溢流口向第一水箱外溢流。浸液折返出流过程中，进行逆流式换热和温度补偿，温度控制精准、稳定，并减少细微气泡的

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116880135 A (43)申请公布日 2023.10.13 (21)申请号 202310911241.0 (22)申请日 2023.07.24 (71)申请人世源科技工程有限公司地址 10