含非均匀介质的光学系统的成像仿真与像质评价的中期报告.docxVIP

含非均匀介质的光学系统的成像仿真与像质评价的中期报告 目前我们已经完成了含非均匀介质的光学系统的成像仿真和像质评价的中期工作，具体进展如下： 1. 建立了包括非均匀介质的基本光学系统模型，包括物体、透镜、非均匀介质等模块，并实现了图像的成像仿真。 2. 针对含非均匀介质的光学系统，我们在Ray Tracing和Zemax两个常用的光学仿真软件上进行了仿真与比较，验证了我们的模型的正确性。 3. 针对含非均匀介质的光学系统，我们提出了一套全新的像质评价方法，并根据实际情况进行了验证实验。结果表明，我们的方法能够有效地评价含非均匀介质的光学系统的像质。 未来的工作重点将会放在以下两方面： 1. 对模型进行优化：目前我们的模型还有一些不足之处，例如无法考虑衍射效应、无法考虑光线的偏振等，我们将会进一步优化模型。 2. 进一步探究像质的影响因素：针对含非均匀介质的光学系统，像质会受到很多因素的影响，例如介质的非均匀性、相位差、透镜的误差等。我们将会进一步探究这些因素对像质的影响，并提出更加全面的像质评价方法。