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在光学光刻中模拟近场图像.pdfVIP

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  • 2023-10-25 发布于四川
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在光学光刻中模拟近场图像.pdf

    一种用于确定用于光学光刻的近场图像的方法和设备，所述方法包括：接收指示光掩模特征的薄掩模图像，其中，在不考虑与光掩模特征相关联的掩模形貌影响的情况下确定薄掩模图像，以及由处理器使用人工神经网络(ANN)由薄掩模图像确定近场图像，其中，ANN使用薄掩模图像作为输入。该设备包括处理器和联接到该处理器的存储器。所述存储器被配置为存储由处理器执行以执行所述方法的指令。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 110678961 A (43)申请公布日 2020.01.10 (21)申请号 20178

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