原创力文档- 4
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- 2023-11-01 发布于四川
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本发明公开了属于溅射技术领域的一种靶材配套聚焦环的校圆工装，该工装采取凸模与凹模配合校圆的一种模式。已经加工好的环靶材配套聚焦环放置在凹模的内部并且紧贴凹模的内模壁，凸模在小型油压机的作用下向下运动与凹模进行配合。凸模与凹模的间隙中为靶材配套聚焦环，凸模与凹模配合时以均匀的压力对靶材配套聚焦环进行校圆。经过适当的保压时间，达到校圆的目的。凹模底部设有弹性装置。校圆完成后凸、凹模分离时，弹性装置推动推件块向上运动，推动靶材配套聚焦环向上运动，达到一个取靶方便的目的，该工装操作简单、方便，可以避免靶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 107983801 A
(43)申请公布日
2018.05.04
(21)申请号 20171
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