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一种纯度分析装置、方法及半导体工艺系统.pdfVIP

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  • 2023-11-01 发布于四川
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一种纯度分析装置、方法及半导体工艺系统.pdf

    本发明涉及一种纯度分析装置、方法及半导体工艺系统，纯度分析装置包括第一气体供应单元、第二气体供应单元、第三气体供应单元、分析单元、气体回收单元、废气处理单元、吹扫单元和保压单元。其优点在于，通过设置第二气体供应单元并与分析单元连通，使得第二气体供应单元可向分析单元供应标气，可通过分析单元对基准气体的第一分析结果判断分析单元是否可正常运行，从而可避免由于分析单元的损害而造成分析结果出现错误的情况发生；通过设置废气处理单元并分别与分析单元、第一气体供应单元、第二气体供应单元连通，可对废气进行回收并进

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116973524 A (43)申请公布日 2023.10.31 (21)申请号 202311237620.2 (22)申请日 2023.09.25 (71)申请人 上海良薇机电工程有限公司 地址

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