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第二章过程装备控制基础 第二章 过程装备控制基础| 简单过程控制系统的设计。| 工业常用复杂控制系统的结构、特点及应用。它们中的多数系统仍只有一个(或一个主要的)被控变量，仍参照简单控制系统的基本原理来分析和设计，仍是经典控制理论发展的产物。 第二章 过程装备控制基础设计一个控制系统步骤：设计一个控制系统| 对被控对象作全面了解。| 解决控制方案和调节器参数的整定。| 系统投运。 第二章 过程装备控制基础| 控制系统控制质量的优劣——过程控制中最重要的问题，取决于自动控制系统的结构及其各个环节的特性。| 被控对象的特性——由生产工艺过程和工艺设备决定，在控制系统的设计中无法改变。只有深刻了解被控对象的特性，才能得到良好的控制质量。 第二章 过程装备控制基础概念1：| 被控对象的特性：是指当被控对象的输入变量发生变化时，其输出变量随时间的变化规律(包括变化的大小、速度等)。通常所讲的对象特性是指控制通道的对象特性。对一个被控对象来说，其输出变量就是控制系统的被控变量，而其输入变量则是控制系统的操纵变量和干扰作用。 第二章 过程装备控制基础概念2：| 通道：被控对象输入变量与输出变量之间的联系。概念3：| 控制通道：操纵变量与被控变 第二章 过程装备控制基础概念4：| 干扰通道：干扰作用与被控变量之间的联系。 第二章 过程装备控制基础2.1.1 被控对象的数学描述：第一节| 以工业过程中最简单的水槽液位对象为例分析推导。性 被控在连续生产过程中，最基本的关系是物料平衡和能量平衡。对象的特 第二章 过程装备控制基础在静态条件下，单位时间流入对象的物料(或能量)等于从系统中流出的物料(或能量)；在动态条件下，单位时间流入对象的物料(或能量)与单位时间从系统中流出的物料(或能量)之差等于系统内物料(或能量)贮存量的变化率。第一节性 被控对象的特被控对象的数学描述就是由这两种关系推导出来的微分方程式。 第二章 过程装备控制基础水槽液位对象：第一节（1）单容液位对象l 有自衡特性的单容对象l 无自衡特性的单容对象性 被控对象的特（2）双容液位对象 第二章 过程装备控制基础有自衡特性的单容对象第一节H：液位，输出变量qv1，qv2：体积流量R 1，R 2：阀门性 被控ss对象的特图2-1 有自衡单容液位对象 第二章 过程装备控制基础显然，在任何时刻水位的变化均满足下面的物料平衡关系：第一节（2-1）被控 V－水槽内液体的贮存量(液体体积)；对象的特 第二章 过程装备控制基础第一节设水槽的横截面积为A，是一个常数，则因为（2-2）（2-3）性 被控所以对象的特 第二章 过程装备控制基础静态情况时：dV/dt = 0第一节qv1 = qv2性 被控qv1变化 ? 液位H变化 ? 水槽出口处静压液变化 ? qv2变化。对象的特 第二章 过程装备控制基础假设 qv1变化量很小，可近似第一节认为流出量取qv2与液位H成正比关系，与出水阀的水阻R 成反比关系，s性 被控即对象的特(2-4) 第二章 过程装备控制基础在讨论被控对象的特性时，所研究的是未受任何人为控制的被控对象，因而出水阀的开度不变，阻第一节性 被控力R 为常数。s对象的特 第二章 过程装备控制基础将式(2-2)和式(2-3)代入式(2第一节-1)，整理得性 被控(2-5)令T=AR K=R ，代入(2-5)，得ss，对象的特(2-6) 第二章 过程装备控制基础式 (2-6)是用来描述单容水槽被控对象的微分方程式，它是一个一阶常系数微分方程式。因此，通常将这样的被控对象叫做一阶被控对象。式(2-6)中的T称为时间常数，K称为被控对象的放大系数，它们反映了被控对象的特性(将在下一节中详述)。第一节被控对象的特性 第二章 过程装备控制基础图2-l所示的水槽液位被控对象,在初始平衡状态时，流入水槽的流量qv1等于流出水槽的流量qv2，第一节因此，液位稳定在某一数值H 上，0被控对象的特性处于平衡状态。在t 时刻，若流人0量qv1突然有一阶跃变化量?qv1，则可由式(2-5)求出相应的液体变化量 第二章 过程装备控制基础第一节(2-7)根据式(2-7)画出图2-l水槽性 被控对液位被控对象在阶跃输入作用下象 的特性曲线如图2-2所示。的特 第二章 过程装备控制基础第一节性 被控对象的特图2-2 单容自衡特性曲线 第二章 过程装备控制基础从图 (2-2)曲线可以看出，在第一 初始阶段，由于qv1突然增加而流节出量qv2还没有变化，因此液位H上升速度很快；随着液位的上升，水被控对性槽出口处的静压增大，因此qv2随之增加，qv1与qv2之间的差值就越来越小，液位H的上升速度就越来越慢。象的特 第二章 过程装备控制基础由式(2-7)和图2-2可以看出，第一 当t??时节(2-8)性