一种用于基材pp膜真空镀膜设备的真空室结构.pdfVIP

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2023-11-11 发布于四川
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一种用于基材pp膜真空镀膜设备的真空室结构.pdf

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本实用新型提供一种用于基材pp膜真空镀膜设备的真空室结构，涉及真空镀膜的技术领域，包括真空室，所述真空室内设有隔板，通过所述隔板将所述真空室分割为溅射腔和卷绕腔，所述溅射腔有两个，呈左右对称布置，卷绕腔位于两个所述溅射腔之间；所述溅射腔对应的所述真空室的外壁设有第一真空组件，所述真空组件与所述溅射腔连通；所述第一真空组件有两组，呈对称分布；所述卷绕腔对应的所述真空室的外壁设有第二真空组件，所述第二真空组件与所述卷绕腔连通；所述第二真空组件有两组，呈对称分布。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219991719 U (45)授权公告日 2023.11.10 (21)申请号 202320828204.9 (22)申请日 2023.04.14 (73)专利权人四川海格锐特科技有限公司地址