原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本公开涉及一种干法蚀刻组件与干法蚀刻机台，一方面，能避免蚀刻时间过长而导致的晶边变薄，在后续制程中有碎片风险；另一方面，由于遮挡环的上表面包括由内至外依次相连的第一面、第二面与第三面，第二面与参考面呈夹角设置，且沿着轴线的方向上，遮挡环的上表面由外至内呈靠近于静电卡盘的趋势，这样能改变制程腔室内部的射频边缘电场强度，以及能影响待蚀刻基板的边缘部位处的等离子体所受到的电场力与流场力，并能实现待蚀刻基板的边缘部位处的等离子体以尽量垂直于待蚀刻基板表面的方向轰击待蚀刻基板的表面，进而起到改善待蚀刻基板
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117059463 A
(43)申请公布日 2023.11.14
(21)申请号 202210484720.4
(22)申请日 2022.05.06
(71)申请人 长鑫存储技术有限公司
地址 23
文档评论（0）