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本发明涉及一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，其通过在主体机构、冲洗机构与过滤机构的作用下对研磨液进行循环过滤以实现重复利用，首先在利用研磨液对半导体研磨的过程中，能够将研磨之后的液体收集到研磨液体箱的内部，并且能够利用过滤网对其中的一些大型颗粒杂质物进行第一次过滤，而后在泵力作用下通过过滤箱对研磨液进行二次过滤，随之将过滤后的研磨液输送到冲洗结机构处以进行再次冲洗使用，从而能够对研磨液进行重复利用，配合对半导体研磨处理，有效降低了生产成本。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117067093 A
(43)申请公布日 2023.11.17
(21)申请号 202311186498.0
(22)申请日 2023.09.14
(71)申请人 冠礼控制科技（上
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