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本公开涉及半导体技术领域,提出了一种离子注入角度测量装置及离子注入系统。离子注入角度测量装置用于测量离子束注入的角度,包括:第一测量组,第一测量组包括多个第一法拉第杯,第一法拉第杯包括第一开口端;第二测量组,第二测量组包括多个沿第二方向设置的第二法拉第杯,第二法拉第杯包括第二开口端;地线,地线与各个第一法拉第杯和各个第二法拉第杯电连接;多个电流测量部,分别位于地线和各个第一法拉第杯之间,以及地线和各个第二法拉第杯之间。第一法拉第杯和第二法拉第杯可以同时获得不同方向的离子束,从而可以同时对离子束不
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117096005 A
(43)申请公布日 2023.11.21
(21)申请号 202210517546.9
(22)申请日 2022.05.12
(71)申请人 长鑫存储技术有限公司
地址 23
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