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一种流体分布均匀的镀覆腔室及镀覆方法.pdfVIP

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  • 2023-11-22 发布于四川
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一种流体分布均匀的镀覆腔室及镀覆方法.pdf

    本发明涉及材料镀覆技术领域，尤其涉及一种流体分布均匀的镀覆腔室及镀覆方法，具体的，镀覆腔室内的进气口位于靠近炉口的输入区域中，抽气口位于靠近炉尾的输出区域中，所述输入区域和所述输出区域之间形成有扩散区域；输入的气体在所述输入区域内混合、逐步通过所述扩散区域后扩散至所述输出区域中。本发明将进气的区域和抽气的区域分别设置于炉口处和炉尾处，尽量拉开进气和出气位置之间的间距，给气体均匀扩散以最大的时间和空间，使其分布的均匀性有所提升，进而提升各个基材镀膜厚度的均匀性，减小色差。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117089825 A (43)申请公布日 2023.11.21 (21)申请号 202310638330.2 (22)申请日 2023.06.01 (71)申请人 无锡松煜科技有限公司 地址 21

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