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- 2023-11-29 发布于四川
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本发明公开了一种面向半导体制造的气态分子污染物在线监测系统，涉及半导体制造管理技术领域，解决了现有技术中，半导体加工区域内无法根据历史加工分析进行气态分子污染物等级划分，且不能够根据实时浓度和控制效率进行气态分子污染物监测管控的技术问题，对洁净区域内半导体历史加工过程进行影响分析，从而判断洁净区域内不同气态分子污染物的影响程度，以便于对气态分子污染物进行等级划分，能够更加直观地分析出气态分子污染物的影响，且能够根据不同等级进行针对性在线监测；通过实时浓度采集并结合气态污染物的控制效率分析，并通过
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117129636 A
(43)申请公布日 2023.11.28
(21)申请号 202311374854.1
(22)申请日 2023.10.23
(71)申请人 中用科技有限公司
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