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用于掩模清洁的单一空间烘烤腔室.pdfVIP

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  • 2023-11-29 发布于四川
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用于掩模清洁的单一空间烘烤腔室.pdf

    本文提供了用于烘烤基板的烘烤腔室及使用其的方法的实施方式。在某些实施方式中，一种用于处理基板的多腔室处理工具包括：用于清洁基板的湿式清洁腔室；及烘烤腔室，其被配置成加热基板以移除在湿式清洁腔室中执行的湿式清洁处理之后剩余的残留物或雾气，烘烤腔室包含：封闭内部容积的腔室主体；布置于内部容积中的加热器，其中加热器配置成在使用期间具有约100摄氏度至约400摄氏度的表面温度；被配置成支撑布置于内部容积中的基板的基板支撑件，其中基板支撑件与加热器具有直接视线，使得加热器通过对流加热基板支撑件；及耦接至内

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117136340 A (43)申请公布日 2023.11.28 (21)申请号 202280027343.X (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理 (22)申请日 2022.04.

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