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- 2023-12-16 发布于四川
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本发明涉及一种基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法,在基板清洗装置,在使研磨头与利用旋转夹具旋转的基板的一面接触的状态下,使该研磨头至少在基板的中心和外周部之间移动。由此,基板的一面被研磨头研磨,从而去除存在于基板的一面上的污染。此时,根据基板的半径方向上的位置,使利用研磨头去除污染的去除能力发生变化。去除污染的去除能力是指,通过研磨擦掉附着于基板的一面的污染物、残留于基板的一面的吸附痕和接触痕等的能力。例如能够通过调整从研磨头作用于基板的一面的按压力,使去除污染的去除能力发生
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN107818928A
(43)申请公布日
2018.03.20
(21)申请号20171
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