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本发明提供了一种衍射光波导及其的制造方法。衍射光波导的制造方法包括:步骤S1:获取内部掺杂金属离子的高折射率基底,在高折射率基底上沉积SiO2层;步骤S2:在SiO2层上沉积金属隔离层;步骤S3:在金属隔离层上涂布光刻胶并通过曝光、显影形成多个间隔的遮挡结构;步骤S4:采用干法刻蚀的工艺,刻蚀掉裸露在外部的金属隔离层以形成多个间隔的子金属层;步骤S5:去除遮挡结构;步骤S6:在裸露的部分SiO2层中,采用金属离子注入方式在SiO2层中形成多个间隔的折射率调制光栅,相邻两个折射率调制光栅之间的区域
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117250684A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311241495.2
(22)申请日2023.09.22
(71)申请人舜宇奥来微纳光电信息技术(上海)
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