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一种可控制下料的反射炉单独放铅装置.pdfVIP

一种可控制下料的反射炉单独放铅装置.pdf

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    本发明公开了一种可控制下料的反射炉单独放铅装置，包括底板和固定连接在底板上表面的炉缸，底板的上表面转动连接有多个第二转杆，第二转杆的一端分别固定连接第一转盘和第二转盘，底板的上表面固定连接有多个固定板，且固定板分别和第一转盘、第二转盘的下表面相贴合，底板的上表面固定连接有平台，平台的上表面固定连接有送料箱，送料箱的内部转动连接有第一转杆，第一转杆的圆周面固定连接有送料架，送料架的圆周面设置有送料槽，炉缸的两侧均固定连接有排料管，本发明中，通过设置有传动机构可以减少了人工干预的需求，提高了生产过程

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117249672A

    (43)申请公布日2023.12.19

    (21)申请号202311313503.X

    (22)申请日2023.10.11

    (71)申请人江西金德铅业股份有限公司

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