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2023-12-20 发布于四川
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具有开合式遮蔽装置的薄膜沉积机台.pdf

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本发明提供一种具有开合式遮蔽装置的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘、一覆盖环及一遮蔽机构。遮蔽机构包括一第一承载臂、一第二承载臂、一第一遮蔽板及一第二遮蔽板，第一及第二遮蔽板分别放置在第一及第二承载臂上。第一及第二遮蔽板的底面与承载盘之间具有对应的对位机构，使得第一及第二遮蔽板可被定位并放置在承载盘上。第一及第二遮蔽板的顶面与覆盖环之间亦具有对应的对位机构，使得覆盖环可定位在第一及第二遮蔽板上，并于反应腔体内区隔出一清洁空间，以有利于清洁腔体及靶材。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117248190A

(43)申请公布日2023.12.19

(21)申请号202210657845.2

(22)申请日2022.06.10

(71)申请人天虹科技股份有限

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