原创力文档- 8
- 0
- 约1.25万字
- 约 13页
- 2023-12-30 发布于四川
- 举报
本发明公开了一种EAPSM掩模版及其制造方法，其中，EAPSM掩模版的制造方法包括以下步骤：提供基材，在第一光刻胶层上形成第一预设图案，露出第一预设图案下方的相移层；沿第一预设图案刻蚀相移层，以形成多个间隔设置的pattern区域；去除第一光刻胶层；在相移层上涂覆光刻胶形成第二光刻胶层，在第二光刻胶层上形成第二预设图案，在第二预设图案处沉积遮光层；去除第二光刻胶层，获得EAPSM掩模版。在本发明通过采用仅由透明基板、相移层和第一光刻胶层组成的基材，在沿第一预设图案刻蚀相移层时，无需刻蚀遮光层，减
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117311079A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202311398106.7G03F1/76(2012.01)
文档评论（0）