半导体器件及其制造方法.pdfVIP

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本发明涉及一种半导体器件及其制造方法。一种半导体器件,包括高压器件区、低压器件区和位于高压器件区与低压器件区之间的隔离区,还包括漂移区、第二导电类型阱区、隔离阱区、隔离结构、功率器件源区以及功率器件漏区。漂移区设于高压器件区,第二导电类型阱区设于隔离区并延伸至低压器件区,隔离阱区设于漂移区中,隔离阱区将漂移区分隔为高压漂移区和功率器件漂移区。隔离结构设于隔离阱区中。功率器件源区设于隔离区并位于第二导电类型阱区中,功率器件漏区设于功率器件漂移区中。利用该半导体器件,既能减小由高压器件区通过漂移区流

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117374072A

(43)申请公布日2024.01.09

(21)申请号202210757089.0

(22)申请日2022.06.30

(71)申请人无锡华润上华科技有限公司

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