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本发明公开了一种晶圆清洗系统，包括输送单元、刷洗单元、定位单元以及单片清洗单元；其中输送单元包括皮带传送装置，用于将晶圆沿水平方向依次输送至刷洗单元和单片清洗单元；所述刷洗单元包括用于滚刷晶圆上下侧的刷辊；单片清洗单元用于晶圆的清洗和/或干燥。本发明还提供一种晶圆清洗方法，通过前述晶圆清洗系统实现。采用上述技术方案，本发明的晶圆清洗系统及清洗方法，通过皮带传送装置将晶圆依次输送至刷洗单元和单片清洗单元，保证输送连续性且占地面积小，结构紧凑，可兼容不同尺寸晶圆，不需要更换部件，对设备进行微调即可。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117410208A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311456402.8
(22)申请日2023.11.03
(71)申请人华海清科（北京）
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