Gd磁控溅射不锈钢薄膜生长形貌及附着性能研究.pdf

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Gd磁控溅射不锈钢薄膜生长形貌及附着性研究/郑小秋等93

Gd*

1112

郑小秋,谢世坤,易荣喜,吴卫

(1,343009;2,610039)

为探讨磁致冷材料Gd表面溅射保护膜后的附着性,利用直流磁控溅射技术在Gd基体上镀不锈钢

(1Cr18Ni9Ti)薄膜采用扫描电镜(SEM)谱仪扫描探针显微镜对薄膜进行了表征,并用引拉法测定了薄膜的

附着强度结果表明,不锈钢薄膜溅射初期呈岛状分布;溅射一定时间后薄膜呈层状生长,表面质量好,膜/基界面结

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合好,附着强度高,在功率密度为966W/cm溅射时间为8min时附着强度达到最大值24.7M

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