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一种存储器及其制造方法、电子设备,该存储器包括:第一结构层,包括第一衬底以及设置在所述第一衬底上的逻辑电路,所述逻辑电路包括间隔设置在所述第一衬底上的多个逻辑晶体管,所述多个逻辑晶体管依次电连接;第二结构层,层叠设置在所述第一结构层上,所述第二结构层包括第二衬底以及设置在所述第二衬底上的存储电路,所述存储电路包括至少一个存储单元,所述存储单元包括至少一个存储晶体管;所述第一结构层中设置有与所述逻辑电路连通的第一通孔,所述第二结构层中设置有与所述存储电路连通的第二通孔,所述第一通孔与所述第二通孔互
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117423655A
(43)申请公布日2024.01.19
(21)申请号202211637671.X
(22)申请日2022.12.16
(71)申请人北京超弦存储器研究院
地址100
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