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本发明属于纳米材料图案化方法技术领域，特别涉及一种基于有机磷配体的纳米晶体无胶光刻方法，本发明通过引入含磷基团的有机分子作为光敏配体，将纳米晶体转变为光敏涂料，实现直接图案化；本发明解决了在完成图案化的过程中有效降低纳米晶体性能损失的问题，且具有以下几点优势：1)高度的区域/立体专一性；2)光敏区间可调，适用于DUV，i‑line和h‑line光源光刻；3)具有高的反应灵敏度，需要极低的曝光剂量；4)对环境不敏感，可在空气氛中操作，反应条件温和，易于操作；本发明的工艺有望在电致及光致发光量子点显
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117420729A
(43)申请公布日2024.01.19
(21)申请号202311132211.6
(22)申请日2023.09.05
(71)申请人南京大学
地址210023
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