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2024-01-20 发布于四川
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一种MOCVD反应单元及MOCVD设备.pdf

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本发明公开了一种MOCVD反应单元及MOCVD设备，包括：基座和反应壳体；其中，基座的一侧开设有容置腔，容置腔适于容纳晶圆；反应壳体设置在基座设置有容置腔的一侧，反应壳体与基座靠近反应壳体的一侧面围合成一反应腔，容置腔与反应腔相连通；反应壳体的两端分别设置有进气口和出气口，以用于供待反应气体进入和排出反应腔；晶圆表面适于与反应腔内的待反应气体接触，晶圆竖直设置在容置腔内，以使得没有附着到晶圆上的颗粒产物可在重力的作用下滑落，防止积存在晶圆上。此结构中生成的金属颗粒没有附着到晶圆上时，会朝向下方掉

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117418219A

(43)申请公布日2024.01.19

(21)申请号202311395675.6

(22)申请日2023.10.25

(71)申请人无锡市华辰芯光半导体科技有限公

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