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本发明属于半导体制造技术领域,尤其涉及一种半导体立式炉热处理用立式晶舟。本发明的立式晶舟装置用于水平地设置多个晶片,具体包括:基座,具有至少一个放置用底面;立柱,设置在所述基座上,且向上延伸;支撑板单元,设置在所述立柱上,且具有至少一个支撑用平面。所述立式晶舟用于支撑晶片的支撑板上设有预制槽,在热处理过程中,预制槽利用支撑板本身受热膨胀的变形效果而逐渐变平,从而增大与晶片的接触面积,有效的降低了支撑板对晶片形成点接触的情况。此外,预制槽整体由两边向中心收缩,以适配支撑板受热膨胀后的形貌变化趋势;
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117438351A
(43)申请公布日2024.01.23
(21)申请号202311753148.8
(22)申请日2023.12.20
(71)申请人无锡松煜科技有限公司
地址21
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