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一种氧化膜的去除方法，对含有氧化膜的工件进行金属氟化物等离子蚀刻，金属氟化物产生的等离子体F‑取代氧化膜中的氧，并与金属等离子体共同形成介稳相，使得氧化膜产生裂缝，同时测试工件的波长，以确定等离子蚀刻的停止时间；再通过惰性气体的等离子体对脆化后的工件进行清洗，以进一步去除氧化膜。其中，本申请的氧化膜的去除方法，反应温和，时间短；蚀刻过程损耗的金属氟化物以及清洗过程中损耗的惰性气体用量少，有利于节省成本，且不会如强碱蚀刻产生较大的环境污染；并且，在等离子蚀刻过程中，实时监测工件的波长，根据工件波长
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117505399A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311443310.6B08B3/04(2006.01)
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