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本发明属于离子刻蚀设备技术领域,公开了一种用于玻璃表面处理的离子束刻蚀设备,包括一工作腔室,工作腔室连接有用于使其保持真空状态的真空系统,且工作腔室内设有离子源,离子源连接有用于为离子源提供至少一种刻蚀气体的充气系统,以通过离子源对刻蚀气体电离而形成刻蚀用的离子束;所述工作腔室内还设有多轴向移动机构,多轴向移动机构具有驱动端且通过驱动端连接有对应于所述离子源的固定板,固定板用于安装待刻蚀的目标玻璃。本发明能够便于在真空系统提供的真空条件下通过离子源进行目标玻璃的刻蚀作业,并且目标玻璃通过多轴向移
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117510089A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202410015757.1
(22)申请日2024.01.05
(71)申请人成都国泰真空设备有限公司
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