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提供了一种用于在相应的第一衬底和第二衬底上同时生产第一外延单晶层和第二外延单晶层的系统(100)，该系统包括：第一内部容器(3)，其限定用于容纳第一源材料和第一衬底的第一腔体；第二内部容器(4)，其限定用于容纳第二源材料和第二衬底的第二腔体；隔热容器(6)，其被布置成在其中容纳第一内部容器(3)和第二内部容器(4)；外部容器(7)，其被布置成在其中容纳隔热容器(6)以及第一内部容器(3)和第二内部容器(4)；以及加热装置(8)，其被布置在外部容器(7)外部并且被配置成同时加热第一腔体和第二腔体。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117529582A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202280019004.7(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限
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