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本申请公开了一种半导体器件的退火系统、方法及半导体器件，其中，退火系统包括：电子束发生模块、分光镜和偏转模块，电子束发生模块被配置为产生并发射第一电子束；分光镜设置在第一电子束发射的第一路径上，被配置为接收第一电子束并发射多个第二电子束，第二电子束形成有第二路径；偏转模块设置在第二路径上，偏转模块被配置为基于半导体器件的预设金属层的图形信息和位置信息，控制多个第二电子束分别对对应的预设金属层进行预设时间的退火处理，以形成半导体器件的欧姆接触金属；即本申请中对预设金属层进行定位并进行退火处理，能有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117524923A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311422789.5H01L29/45(2006.01)
(22)申请日2023.10.
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