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本发明涉及基于Pt@ZIF‑8吸附剂高效去除三氯氢硅中甲基氯硅烷杂质的方法，本发明采用Pt@ZIF‑8吸附剂对甲基二氯硅烷、二甲基氯硅烷杂质同时进行吸附，开创性的实现对甲基二氯硅烷、二甲基氯硅烷杂质同时高效去除，工艺流程简单，设备投资低、能耗低，对甲基二氯硅烷的去除率高达83％，对二甲基氯硅烷的去除率高达85％，一种吸附剂可以对甲基二氯硅烷、二甲基氯硅烷同时高效去除，有效解决了三氯氢硅中甲基氯硅烷杂质难去除的问题，同时本发明的吸附剂易于分离，且可以通过在氮气下脱附重复利用，节约成本，在工业领域具
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117531240A
(43)申请公布日2024.02.09
(21)申请号202311510953.8C01B33/107(2006.01)
(22)申请日2023.11
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