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本发明涉及一种电镀废水处理羟基氧化装置及其处理工艺，具体包括集中处理箱；所述集中处理箱自一端向另一端依次包括中和室、凝絮沉淀室、导流沉淀室、臭氧催化氧化室，以及固定设置于所述中和室上的盖板A、固定设置于所述凝絮沉淀室上的盖板B，所述臭氧催化氧化室开设有出水口、出气口；所述中和室设置有溢流挡板，所述凝絮沉淀室设置有导流板A、沉淀出水孔，所述导流沉淀室设置有导流板B；所述凝絮沉淀室上固定设置有凝絮沉淀废水的凝絮沉淀机构；所述臭氧催化氧化室上固定设置有氧化废水的臭氧氧化机构。本发明可有效的控制臭氧氧化
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117550746A
(43)申请公布日2024.02.13
(21)申请号202311661532.5C02F1/00(2023.01)
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