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一种改善膜层颗粒的方法.pdfVIP

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  • 2024-02-14 发布于四川
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一种改善膜层颗粒的方法.pdf

    本发明公开了一种改善膜层颗粒的方法，用于镀膜工艺，包括：进行遮挡物清洁；进行镀膜机腔体清洁；包括使用负压吸收装置清除腔体内的粉尘，进行擦拭处理，安装已清洁的遮挡物，将腔体抽至真空状态；使用预溅射对真空状态的腔体进行设备自洁处理。本发明能改善镀膜膜层颗粒，避免膜层出现针孔、白缺陷等不良状况，有效地提高了膜层的质量，使掩模基板NG率减少。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117551978A

    (43)申请公布日2024.02.13

    (21)申请号202311487203.3C23C14/14(2006.01)

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