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本发明公开了一种去除残留熔滴的V形狭槽铟砷基材料液相外延石墨舟,涉及半导体薄膜技术领域,包括盖板、母液槽块、衬底槽滑板和底座,底座具有U形槽,衬底槽滑板上开设有衬底放置槽,且衬底槽滑板能沿第一方向滑动设置在U形槽内;母液槽块与底座能拆卸地固连一起,母液槽块上开设有至少一个母液槽,母液槽在水平面上的投影能覆盖衬底放置槽在水平面上的投影,且各母液槽的一侧均设有一个V形狭槽,各V形狭槽的开口朝向均与衬底槽滑板从U形槽拉出的方向相同,V形狭槽的两端间距大于衬底放置槽宽度。通过在母液槽一侧设置V形狭槽,多
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117568921A
(43)申请公布日2024.02.20
(21)申请号202311540645.X
(22)申请日2023.11.20
(71)申请人中国科学院上海技术物理研究所
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