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本发明涉及一种基板处理装置的气体歧管，提供一种基板处理装置的气体歧管，其用于从供气源向进行基板处理工艺的工艺腔室提供工艺气体，包括：金属材料的供给配管，其从所述供气源沿上下方向延伸至分配体；金属材料的流入配管，其与所述工艺腔室连接，用于使所述工艺气体流入所述工艺腔室的内部；陶瓷材料的输送配管，其介于所述分配体与所述流入配管之间，用于将通过所述供给配管传递来的工艺气体输送至所述流入配管，能够抵消根据温度变化而引起压缩或者拉伸位移导致的热应力，从而提高耐久寿命。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117587385A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311050046.X
(22)申请日2023.08.17
(30)优先权数据
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