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公开了一种等离子体后处理设备，等离子体后处理设备包括：腔室；台，设置在腔室内部，其中，台上将设置工作基底；扩散器，扩散器中的每个的宽度在远离工作基底的方向上增大，并且扩散器中的每个具有孔并且设置在台上方；传送管道，分别连接到扩散器；以及等离子体产生器，分别连接到供应工艺气体的管道并且分别连接到传送管道，并且限定在扩散器之中的设置在工作基底的中心处的扩散器中的孔的直径小于限定在扩散器之中的剩余的扩散器中的每个中的孔的直径。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117594409A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311049434.6
(22)申请日2023.08.18
(30)优先权数据
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