集成电路版图设计项目化教程(第2版)课件汇总 101 为满足工艺要求所作的优化---110 pitch的确定.pdf

集成电路版图设计项目化教程(第2版)课件汇总 101 为满足工艺要求所作的优化---110 pitch的确定.pdf

为满足工艺要求所作的版图优化

学习目标

一些特殊器件的

性能指标要求

为满足工

艺要求所一些特殊工艺层

作的版图次设计规则要求

优化

加工线工艺文件

的随时变化等

为满足工艺要求所作的版图优化

版图设计完成后通常并不能马上交付进行掩膜版制作,而需要对版图进

行一些优化工作,主要原因在于:

对一些特殊器件的性能指标要求;

一些特殊工艺层次的设计规则要求;

加工线工艺文件的随时变化等。

版图优化的基础和原则:

所设计产品性能指标的要求;

工艺线所提供的文件。

电容的版图设计及优化

在版图设计中经常使用的源漏短接MOS管所形成的电容,其实这种类型

电容的特性不

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档