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- 2024-02-28 发布于四川
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提供衬底处理装置及半导体器件的制造方法。具备:衬底保持件,保持以规定间隔排列的多张衬底;筒状反应管,具备将上端封堵的顶壁和下端开口的开口部,将衬底保持件能经由开口部取放地收纳,沿铅垂方向延伸;筒状入口法兰,与反应管下端连接,在外周面具备多个气体导入口;盖部,以能够供衬底保持件取放的方式堵塞入口法兰的下端开口;M(3以上整数)个加热器元件,沿入口法兰的外周面,避开气体导入口而配置;N(2以上且比M小的整数)个温度传感器,与入口法兰和加热器元件的某方热结合,检测温度;和温度控制器,将M个加热器元件分
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN110911310A
(43)申请公布日
2020.03.24
(21)申请号20191
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