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光刻技术：光学关键尺寸测量（OCD）原理.doc

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    光刻技术：光学关键尺寸测量（OCD）原理

    中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授外，学生还就感兴趣的课题做

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