半导体装置.pdfVIP

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  • 2024-03-02 发布于四川
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本发明公开了一种半导体装置,半导体装置包括:第一导电类型的漂移层;第一沟槽,多个第一沟槽中的一部分为第一间隔沟槽,第一间隔沟槽为多个且包括间隔设置的第一子沟槽和第二子沟槽;第二沟槽,第二沟槽间隔设置于第一子沟槽和第二子沟槽之间,第二沟槽为多个且与多个第一间隔沟槽一一对应;第一连接沟槽,两个第一连接沟槽中的一个将多个第二沟槽的一端连接,另一个将多个第二沟槽的另一端连接。由此,第一连接沟槽可以将多个第二沟槽围闭,将绝缘栅双极晶体管区域和快恢复二极管区域分隔开,防止绝缘栅双极晶体管区域与快恢复二极管区

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117637828A

(43)申请公布日2024.03.01

(21)申请号202311556201.5

(22)申请日2023.11.20

(71)申请人海信家电集团股份

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